ald1 화학기상 증착(CVD) 화학기상 증착(CVD) CVD는 기체 상태에서 이종화합반응을 통하여 미세구조를 갖는 고체상태의 박막을 증착하는 방법이며 금속 박막은 물론 원자들끼리 결합하는 데 비교적 큰 에너지를 필요로 하는 반도체 및 절연체 물질의 미세박막을 형성하는데 널리 사용되는 기술임, CVD는 반응에너지원, 공정압력, 원료물질에 따라 분류할 수 있으며, 반도체· 디스플레이 생산 공정에 필요한 고순도 박막 형성에 주로 사용되고 있습니다. - 매우 다양한 CVD 장비 형태가 존재하는데 그 동작 원리나 환경의 차이에도 불구하고 공통적인 구성요소를 가짐. 반응가스를 이용하여 전구체(라디칼)가 반응기의 기판 위로 이동한 뒤 열분해 혹은 플라즈마에 의한 분해로 화학반응을 거쳐 새로운 화합물질이 박막형태로 증착되는 공정을 거칩니다. - 실.. 2020. 8. 25. 이전 1 다음
